这些多项选择半导体问题和答案将帮助您更好地理解半导体主题。 使用这 100 多个半导体 MCQ 为您的下一次考试或面试做准备。
向下滚动以从答案开始。
A. 在各个方向上开放电流流
B. 在一个方向上阻止电流,同时让电流向另一个方向流动。
C. 在所有方向上关闭电流
A. 锑
B. 磷
C. 砷
D. 硼
A. 费米 - 迪拉克分布
B. 麦克斯韦·博尔兹曼分布
C. Bose-Einstein分布
A. P-N连接
B. 早期电压
C. 金属 - 金属金属连接
D. 大厅效应连接
A. 它已经融化并搅动。
B. 添加了杂质以使其导电不足。
C. 已经添加了以可控制的方式改变其电子特性的杂质。
D. 它已清除了所有杂质。
A. 更改半导体的行为
B. 复制半导体
C. 氧化半导体
D. 净化半导体
A. 是的。所有半导体都在沙子采石场中发现。
B. 否。它需要杂质才能成为半导体。
C. 是的。
D. 是的。纯净,越好。
A. n型和p-type
B. Schottky&de Forest
C. 左撇子和右手
D. 内在和外部
A. 切断频率
B. 匹配频率
C. 共振频率
D. 调谐频率
A. 米勒
B. 马洛
C. 摩尔' s
D. Marchand
A. 来源,门,信号和身体。
B. 沙子,门,排水和身体。
C. 来源,也没有。
D. 来源,门,排水和身体。
A. 增加线路焦点
B. 提高故障电压
C. 减少步骤响应时间
D. 减少碳酸钙的积聚
A. 电阻和导电
B. 伽玛和三角洲
C. 光子和声子
D. 价和传导
A. 电阻
B. 电子
C. 二极管
D. 晶体管
A. 一半的导体。
B. 一个不能很好地工作的导体。
C. 导电材料和绝缘体的组合。
D. 两个导体的两半。
A. N-N-N和P-N-P。
B. N-P-R,U-P-N
C. N-P-N和P-N-P。
D. N-P-N和P-N-N-P。
A. PSET
B. Mtt
C. NRT
D. BJT
A. 他们并不重要。
B. 它们很大且耐用。
C. 他们成功替换了真空管作为计算数据的主要方法。
D. 他们取代了硅。
A. 来源,排水和门
B. 电压,电流和电阻率
C. 发射极,收藏家和基础
D. 掺杂者,受体和捐助者
A. 制造
B. 插入
C. 光刻学
D. 掺杂
A. 融化。
B. 破裂。
C. 掺杂。
D. 进行。
A. 双金属詹宁斯晶体管
B. 返回正当的晶体管
C. 硼关节晶体管
D. 双极连接晶体管
A. 盐。
B. 硅。
C. 玻璃。
D. 橡皮。
A. 光发射装置
B. 光电磁二极管
C. 发光二极管
D. 轻型电子设备
A. 绝缘门两极晶体管。
B. 固有的基于锗的晶体管
C. 惰性门双向晶体管
D. 碘石墨硼晶体管
A. 费米恩
B. 玻色子
A. 一个由一个元素的三个部分组成的半导体到另一个元素的五个部分
B. 由周期表III和V列中的元素制成的半导体
C. 一个半导体,在3 eV和5 eV处有传导带
A. N型半导体。
B. 硼晶晶体管。
C. 硼反应晶体管。
D. P型半导体。
A. Fermi-Dirac分布和状态的密度
B. ohm'&Kirchhoff目前的法律
C. Riemann Zeta功能和傅立叶变换
D. Bose-Einstein分布和贝塞尔功能
A. 隧道
B. 自发发射
C. 初始化
D. 重组
A. 漂移,扩散,重组产生
B. 重组产生,分歧,扩散
C. 分解,漂移,重组产生
D. 漂移,扩散,分歧
A. BJT
B. scr
C. TRIAC
D. mosfet
A. 他们的水晶格子。
B. 他们的外面。
C. 他们的中心。
D. 他们的层。
A. 光子 - 音波对
B. 电子孔对
C. 磁性单极
D. 带隙共振
A. bandgap
B. 声子频率
C. 电子有效质量
D. 介电常数
A. 潜在的
B. 活力
C. 电导率
D. 力量
A. 费米能量
B. 狄拉克统计
C. 费米级
D. 费米恩水平
A. 光刻
B. 化学蒸气沉积(CVD)
C. mems
D. 溅射
A. 椭圆的半小轴
B. 椭圆的主要轴
C. 大弦
D. 椭圆的次要轴
A. 所有这些都是退化半导体的特征
B. 它像金属一样
C. 它的费米水平几乎等于其传导或价带能量
D. 它高度掺杂
A. 金属晶体管
B. 记忆锥子
C. 金属电阻
D. 内存电阻
A. l
B. 问
C. t
D. r
A. 晶体管
B. 电感器
C. 二极管
D. 电阻
A. 17%
B. 33%
C. 52%
D. 21%
A. 铜,凹,凝胶,硒
B. 镉,indium,锗,硫
C. 铜,凹膜,镀银,银
D. 碳,碘,锗,硫
A. 1.12 ev
B. 25.6 mev
C. 15 ev
D. 137梅夫
A. 第四组
B. 第五组
C. 第三组
D. 第六组
A. 工厂
B. 薯条店
C. 半导体生产设施(SPF)
D. 拼盘植物
A. 1.12 ev
B. 1.41 ev
C. 2.83 ev
D. 0.79 ev
A. 锗
B. 砷耐甘油
C. 碳化硅
D. 硅
A. 他们已经被离居。
B. 他们已经加快了。
C. 他们被轰炸了。
D. 它们被中微子包围。
A. 硅
B. 砷耐加仑
C. 锗
D. 铝砷
A. 镍 - 钯晶体催化
B. Schottky结晶
C. Czochralski进程
D. 化学气相沉积
A. 抄写线
B. 粘合剂
C. 六座
D. 面具
A. 外在
B. 固有的
C. 冻结
D. 融化
A. NM^3
B. mm^3
C. M^3
D. CM^3
A. 真的
B. 错误的
A. 它解放了大量自由多数载体
B. 都不是
C. 它由向前偏见的P-N二极管中的电击穿组成
D. 所有这些
E. 它发生在浓度的掺杂连接处
A. 积累
B. 传导
C. 反转
D. 消耗
A. 电子密度
B. 磁取向
C. 热运动
D. 合成渗透
A. 一个光子
B. 一个声子
A. 积极地充电
B. 负责
C. 电气中性
D. 以上都不是
根据振荡器的Barkhausen标准_______。
A. <p>aβ<1 </p>
B. <p>aβ> 1 </p>
C. <p>aβ= 1 </p>
D. <p>aβ≤1</p>
A. 增加
B. 减少
C. 保持不变
A. 5.2 MA
B. 6.12 ma
C. 7.03 MA
D. 7.45 MA
A. 2ib
B. 10ib
C. 4ib
D. IB/2
A. 0.2
B. 200
C. 100
D. 20
A. 正载正面的正循环
B. 负载负载的负半周期
C. 通过负载正面和负半循环
D. 以上都不是
A. 5V
B. 12V
C. 10.36V
D. 5.18V
A. 从阴极到阳极
B. 从阳极到阴极
C. 在以上两个方向上
D. 在两个方向上交替
A. 40%
B. 30%
C. 22%
D. 27%
A. 非常轻微
B. 缓和
C. 重的
A. 20kHz
B. 50kHz
C. 100kHz
D. 200kHz
A. 30.4
B. 32.9
C. 57
D. 4.5
A. 随着正门电压的降低
B. 随着正门电压的增加
C. 随着负门电压的降低
D. 随着负门电压的增加
A. 130 dB
B. 140 dB
C. 132 dB
D. 138 DB
A. c/lr
B. R/LC
C. l/cr
D. 2L/cr
A. 三极管
B. Pentode
C. 廷拉隆
D. 二极管
A. 打开
B. 短的
C. 有时打开,有时短
D. 不变
A. 40%
B. 81.2%
C. 90%
D. 99%
A. 5V
B. 10V
C. 20V
D. 30V
A. 三角形
B. 矩形的
C. 锯齿
D. 尖刺
A. 0.95
B. 10
C. 9.5
D. 0.095
A. 300
B. 600
C. 900
D. 1800
A. 矩形的
B. 钉
C. 三角形
D. 正弦
A. SI晶体管的0.9V
B. SI晶体管的0.5V
C. SI晶体管的0.3V
D. Si晶体管的0.7V
A. fo = 1/2п√RC
B. fo = 1/2п√6rc
C. fo = 1/√2пRC
D. fo = 2/√2пRC
A. ω
B. KΩ
C. mΩ
D. MΩ
A. 0
B. 低的
C. 很高
D. 非常低
A. 2MA
B. 1ma
C. 4ma
D. 8mA
A. 10 MA
B. 20 ma
C. 5 ma
D. 3.18 ma
A. 整流器和放大器
B. 整流器和晶体管
C. 整流器和振荡器
D. 整流器和逆变器
A. RC振荡器
B. LC振荡器
C. 晶体振荡器
A. 4.7V
B. 5.4V
C. 3.3V
D. 0.7V
A. 在阶段
B. 90°偏置
C. 180°偏置
D. 120°偏置
A. 0
B. 积极的
C. 消极的
A. 双极装置
B. Tripolar设备
C. 单极设备
A. 电路中只有N通道设备
B. 电路中只有P通道设备
C. 电路中的N和P通道设备
D. 以上都不是
A. NP/NS = 40
B. NP/NS = 20
C. NP/NS = 30
D. NP/NS = 10
A. 0
B. 10
C. 1
D. 100